Przezroczysta elastyczna bateria
26 marca 2007, 09:54Japońscy naukowcy z Waseda University opracowali polimerową baterię, która może wytrzymać 1000 cykli ładowania. Bateria ma grupość jedynie 200 nanometrów, jest przezroczysta i elastyczna.
Nokia i Microsoft razem
6 sierpnia 2007, 11:36Nokia ogłosiła, że ma zamiar wykorzystać opracowane przez Microsoft technologie DRM do ochrony treści przechowywanych w telefonach komórkowych. Fińska firma kupi licencję na technologię PlayReady i wbuduje ją we własne oprogramowanie S60.
Bardzo gęste flesze
13 grudnia 2007, 00:04O kolejnym osiągnięciu, dzięki któremu powstaną jeszcze nowocześniejsze pamięci krzemowe, informuje firma Toshiba. Opracowana przez nią struktura z podwójną warstwą tunelowania umożliwi budowanie pamięci flash w technologii 10 nm. Tak duża gęstość upakowania elementów (najnowocześniejsze obecnie mikroprocesory wykonane są w technologii 45 "aż" nanometrów) pozwoli budować układy pamięci flash o pojemności nawet 100 Gbit (12,5 gigabajta).
Bliżej autonomicznych robotów chirurgicznych
12 maja 2008, 12:42Uczeni z Duke University przeprowadzili właśnie testy laboratoryjne, które stanowią, jak wierzą, pierwszy krok na drodze do zbudowania autonomicznych robotów przeprowadzających operacje na ludziach.
Spowalniający kluczyk
7 października 2008, 11:32W roku 2010 w modelu Ford Focus Coupe zadebiutuje technologia, która z pewnością ucieszy wielu rodziców. Zadaniem MyKey jest danie rodzicom przynajmniej częściowej kontroli nad tym, w jaki sposób ich dzieci prowadzą samochód.
Bezpieczne kłucie
12 marca 2009, 20:26Czy można udoskonalić urządzenie tak proste jak igła do strzykawki? Ależ oczywiście! Można na przykład uczynić ją bezpieczniejszą, co udowadniają specjaliści z firmy MedPro Safety Products. Opracowany przez nich produkt niemal całkowicie eliminuje ryzyko powtórnego użycia zużytego sprzętu oraz przypadkowych zakłuć.
DRM dla sieci P2P
23 września 2009, 12:24Microsoft uzyskał patent na zdecentralizowany system DRM, który może być używany w sieciach P2P. Koncern starał się o prawa do niego od 2003 roku.
Intel omija problemy z EUV
1 marca 2010, 15:59Podczas konferencji LithoVision 2010 wiele uwagi przyciągnęło wystąpienie przedstawicieli Intela. Z jednej strony poinformowali oni, że technologia litografii w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie (EUV) pojawi się, jak dla niej, zbyt późno, z drugiej zaś - że dostosują obecnie używane narzędzia do produkcji 11-nanometrowych układów scalonych.
Kluczowe rozumienie opisów
18 sierpnia 2010, 11:52Zespół australijskich naukowców pracujących pod kierunkiem Stephana Wintera rozpoczął trzyletni program badawczy, którego celem jest usprawnienie rozumienia lokalizacji geograficznej przez komputery.
Plazmonowy laser pracuje w temperaturze pokojowej
21 grudnia 2010, 11:24Profesor Xiang Zhang z Uniwersytetu Kalifornijskiego w Berkeley nie rzuca słów na wiatr. Przed dwoma laty wraz ze swoim zespołem połączył metalowe plazmonowe soczewki z "latającą głowicą" udoskonalając proces litograficzny i obiecał, że w ciągu 3-5 lat nowa technologia znajdzie komercyjne zastosowanie. Już rok później znacząco udoskonalił plazmonowy laser (spaser), dzięki czemu jest on w stanie wygenerować światło na przestrzeni zaledwie 5 nanometrów.
